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喷打用红色陶瓷表面装饰墨水的制备与性能 总被引:3,自引:0,他引:3
制备了一种红色陶瓷表面装饰墨水——与传统陶瓷表面装饰的新技术(连续式喷墨打印法)配套的新型墨水。它以陶瓷颜料为基本着色料,用溶胶一凝胶法制备,以连续式喷墨打印墨水的质量标准为参照标准。经测试,所制墨水的电导率、表面张力、粘度等理化性能完全符合喷墨打印墨水的要求,适合用喷墨打印法陶瓷装饰工艺的需要。研究了分散剂、粘接剂、pH值、固含量等工艺因素对该墨水性能的影响。该墨水制成时为墨绿色,经煅烧,各组分反应生成颜料,显现粉红色。 相似文献
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半球谐振子薄壁厚度不均匀性对陀螺精度的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
针对半球谐振陀螺仪的工艺制造偏差,研究半球谐振子薄壁厚度不均匀对陀螺精度的影响,建立误差模型,分析误差机理.首先对谐振子进行应变分析,然后分析薄壳微元的受力情况,根据力和力矩平衡方程建立半球谐振子动力学方程,得出由于厚度不均匀造成的半球谐振陀螺仪角速率误差.研究结果表明其傅立叶展开式的1~3次谐波项对角速率误差无影响,而4次谐波有影响.为提高陀螺精度,对陀螺厚度不均匀加以平衡. 相似文献
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本文研究的问题是超声速气流流过物体时产生的气体动力和物理化学非均匀性及其对物体空气动力特性的影响。就有关流动非均匀性对温度剖面和密度的效应作了详细探讨,还仔细描述了激波与热层相互干扰时以及在激光辐射脉冲的作用下先行激波生成的情况。值得指出的是超声速气流中加入激光辐射能可能改变流动结构,在局部能量释放区域后面呈现的较高和较低压力,有助于控制飞行中物体的运动。可采取某些措施以改进飞行品质。 相似文献
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CT图像环状伪影校正方法 总被引:1,自引:0,他引:1
CT图像环状伪影是由探测器像元响应不理想等因素造成的,它导致CT重建图像的降质,影响了图像的后续处理和量化分析.提出了一套完整的算法完成CT伪影校正:基于探测器像元通道响应不一致性的校正,通过偏置和增益校正对硬件响应不一致性进行补偿;基于投影正弦图的校正,通过数字滤波提取正弦图上残余的线状伪影,属于CT图像重建前的一种预处理校正方法;基于重建图像的校正,通过坐标变换将直角坐标系中的环状伪影变为极坐标系中的线状伪影进行处理,属于一种图像后处理方法.这些算法已经用于基于YXLON XRS232 9″图像增强器的CT重建,在保证图像质量的基础上环状伪影得到有效校正. 相似文献
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红外焦平面阵列的非均匀性严重影响了红外成像质量,因此必须对其进行非均匀性校正。在深入地分析了非均匀性的来源及其表现形式的基础上,对目前存在的几种非均匀性校正方法进行了详细的探讨和对比,并给出了研究建议。 相似文献
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为了给太阳模拟器系统热管理提供可靠的技术依据,研究了准直光学系统热变形对系统性能的影响。选取项目组自主研发的高精度太阳模拟器准直光学系统作为研究对象,利用有限元软件仿真实际工作条件下各光学元件表面温度及热变形分布,将通光表面变形数据拟合为泽尼克系数导入光学设计软件中,分析热变形对系统准直角误差及辐照均匀度影响。研究结果表明:在未采取温控措施的自然对流条件下,热变形造成±1′的准直角误差和41.3%的辐照不均匀度,超出允许范围,需进行温控。通过光机集成分析法,给出了不同温度下,对流系数与热变形导致的准直角误差和辐照不均匀度对应关系,为风冷温控系统工程化设计提供了依据。 相似文献
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研究了GH150合金对接氩弧焊接头显微组织和力学性能的不均匀性,用金相分析和微型剪切试验等方法得到了该焊接接头各区域的微观组织和力学性能分布特性。结果表明,该焊接接头中存在着比较严重的微观组织和力学性能不均匀性,其不均匀程度在熔合线附近最为严重。因而认为熔合区是该焊接接头力学性能最薄弱的部位。同时,由微型剪切试验所得到的力学性能梯度曲线还表明,GH150合金是一种高强度材料,其韧塑性却偏低;在焊接接头各区域中的强度指标变化不大,但是焊缝和热影响区的韧塑性比母材降低较多。其中,焊缝的剪切变形率降低21.8%,剪切功降低25.5%。 相似文献
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为了给太阳模拟器系统热管理提供可靠的技术依据,研究了准直光学系统热变形对系统性能的影响。选取项目组自主研发的高精度太阳模拟器准直光学系统作为研究对象,利用有限元软件仿真实际工作条件下各光学元件表面温度及热变形分布,将通光表面变形数据拟合为泽尼克系数导入光学设计软件中,分析热变形对系统准直角误差及辐照均匀度影响。研究结果表明:在未采取温控措施的自然对流条件下,热变形造成±1’的准直角误差和41.3%的辐照不均匀度,超出允许范围,需进行温控。通过光机集成分析法,给出了不同温度下,对流系数与热变形导致的准直角误差和辐照不均匀度对应关系,为风冷温控系统工程化设计提供了依据。 相似文献
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针对环形气囊抛光光学元件表面时产生的抛光非均匀性现象,简要介绍了环形气囊抛光技术的运动方式和实验平台的主要组成部分。介绍了环形气囊的抛光机理,基于Preston方程,分析了抛光非均匀现象产生的原因和解决途径,通过调整环形气囊抛光头与工件之间的相对运动方式和调整环形气囊抛光头与工件之间的相对位置等两种方法,消除了工件中心抛光效果差的现象,实现了工件表面的均匀性抛光。 相似文献